Nanochrome™ V: Fortschrittliches Sputter-System

Präzision in der Beschichtungstechnologie

Das Nanochrome™ V ist ein hochmodernes System, das für plasmaunterstützte Verdampfung und Sputterprozesse entwickelt wurde. Mit unvergleichlicher Zuverlässigkeit und Präzision trägt es gleichmäßig hochwertige Dünnschichten für eine Vielzahl von Anwendungen auf und ist damit die ideale Lösung sowohl für Produktions- als auch Forschungsumgebungen.

Nanochrome™ V: Fortschrittliches Sputter-System

Präzision in der Beschichtungstechnologie

Das Nanochrome™ V ist ein hochmodernes System, das für plasmaunterstützte Verdampfung und Sputterprozesse entwickelt wurde. Mit unvergleichlicher Zuverlässigkeit und Präzision trägt es gleichmäßig hochwertige Dünnschichten für eine Vielzahl von Anwendungen auf und ist damit die ideale Lösung sowohl für Produktions- als auch Forschungsumgebungen.

Was ist Sputtern?

Sputtern ist ein Verfahren, bei dem Teilchen von der Oberfläche eines Targetmaterials abgelöst werden, indem es mit energiereichen Plasma- oder Gaspartikeln – häufig als Arbeitsgas bezeichnet – bombardiert wird. Dieses Verfahren wird weit verbreitet zur Beschichtung von Dünnschichten auf Substraten eingesetzt und bietet folgende Vorteile:

  • Physikalischen und chemischen Schutz
  • Lichtfiltereigenschaften
  • Verbesserte elektrische und thermische Eigenschaften
  • Beschichtung komplexer Geometrien

Warum Nanochrome™ V?

 Überlegene Merkmale:

  • Manuelle oder automatische Substrat-Load-Locks
  • Automatisierte Dünnschichtabscheidung über Intlvac-Software
  • Touchscreen-Bedienoberfläche für einfache Navigation
  • Stabile, zuverlässige und hoch reproduzierbare Prozesse
  • Erweiterbares Design für zukünftige Anforderungen

 Highlights:

  • Hochmoderne Trockenpumpsysteme
  • 500 mm OD-Substrate mit bis zu 20 kg Kapazität
  • Abscheidung von Metallen und Dielektrika (RF, DC, Pulsed DC)
  • Wachstumsraten von bis zu 5 Å/s für Oxide
  • Adaptives optisches Steuerungssystem (Wellenlängen von 400–1650 nm)

Leistungsvorteile

  • Erhöhte Packungsdichte: Erzielen Sie bessere Ergebnisse im Vergleich zu herkömmlichen Verdampfungsverfahren.
  • Reaktives Metall-Targeting: Erzeugen Sie Oxide und Nitride mühelos.
  • Kürzere Zykluszeiten: Sparen Sie Zeit, ohne Kompromisse bei der Qualität einzugehen.

Entwickelt für Zuverlässigkeit und Bedienkomfort

  • Langlebigkeit der Maschine: Entwickelt für eine lange Lebensdauer – selbst bei anspruchsvollen Anwendungen.
  • Support auf Abruf: Intlvac bietet branchenführenden Kundendienst.
  • Benutzerfreundliche Bedienung: Leicht erlernbare Software mit flexiblem Handbetriebsmodus.
  • Umfassende Prozesskontrolle: Von der Protokollierung der Abläufe bis zur Endpunktüberwachung.

Technische Spezifikationen

Abscheidungskammer:

  • Edelstahl-Klappgehäuse für einfachen Zugang
  • 48" Durchmesser × 40" Höhe mit minimalem Ausgasen

Substrathalter:

  • Drehbare 500-mm-OD-Scheibe
  • Unterstützt Bauteile bis zu 20 kg

Gassteuerung:

  • Unterstützt Argon, O₂ und N₂
  • Pneumatisch betätigte Gasleitungsventile

Heizung:

  • IR-Strahler zum Erhitzen der Substrate auf bis zu 200 °C

Vakuumpumpensystem:

  • Hochvakuum in 45 Minuten bis 5 × 10⁻⁶ Torr erreicht
  • Zwei breitbandige Magnetlagerpumpen und Leybold-Trockenpumpe

Intlvac Ionenquelle

Unsere firmeneigene, gitterlose End-Hall-Ionenquelle wurde für die Vorreinigung und Unterstützung von Substraten entwickelt. Mit winkel- und linearer Verstellbarkeit gewährleistet sie höchste Präzision und optimale Leistung.

Intlvac Software: Automatisierung des Prozesses

Die Software des Nanochrome™ V automatisiert zentrale Funktionen wie Evakuierung, Gasfluss, Ionenquelle und Sputtern und macht den Betrieb dadurch:

  • Einfach zu bedienen
  • Zeit- und kosteneffizient
  • Hochstabil und zuverlässig

Softwarefunktionen:

  • Einfache Prozessprogrammierung
  • Mehrere Zugriffsebenen für flexible Benutzerverwaltung
  • Manueller Modus für erweiterte Steuerung verfügbar

Intlvac Support

Wir sind stolz darauf, unübertroffenen Kundensupport zu bieten, um Ihren Erfolg sicherzustellen:

  • Unterstützung bei der Prozessprogrammierung
  • Fernwartung und Remote-Unterstützung
  • Vor-Ort-Schulungen
  • Benutzerunterstützung jederzeit

Anwendungen von Dünnschichten

Dünnschichten, die mit dem Nanochrome™ V hergestellt werden, können eingesetzt werden für:

  • Schutzschichten (physikalisch und chemisch)
  • Lichtfilterung
  • Verbesserte elektrische oder thermische Eigenschaften
  • Beschichtung von Objekten mit komplexer Geometrie

Anwendungen von Dünnschichten

Dünnschichten, die mit dem Nanochrome™ V hergestellt werden, können eingesetzt werden für:

  • Schutzschichten (physikalisch und chemisch)
  • Lichtfilterung
  • Verbesserte elektrische oder thermische Eigenschaften
  • Beschichtung von Objekten mit komplexer Geometrie

Anwendungen von Dünnschichten

Dünnschichten, die mit dem Nanochrome™ V hergestellt werden, können eingesetzt werden für:

  • Schutzschichten (physikalisch und chemisch)
  • Lichtfilterung
  • Verbesserte elektrische oder thermische Eigenschaften
  • Beschichtung von Objekten mit komplexer Geometrie

Bereit, mehr zu erfahren?

Kontaktieren Sie Intlvac noch heute und erleben Sie, warum das Nanochrome™ V das ultimative System für Sputtern und Dünnschichtabscheidung ist. Ob in der Forschung oder Produktion – dieses System ist Ihr Partner für Innovation.

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