Nanochrome I

Kompakte, vielseitige PVD-Plattform für Forschung und Pilotproduktion

Das Nanochrome™ I von Intlvac Thin Film ist ein leistungsstarkes F&E- und Pilot-System für die Physikalische Gasphasenabscheidung (PVD), das für Flexibilität, Präzision und Benutzerfreundlichkeit entwickelt wurde. Mit kleinem Platzbedarf, kosteneffizientem Betrieb und Mehrprozessfähigkeit ist es die ideale Lösung für die Entwicklung von Dünnschichten über ein breites Spektrum fortschrittlicher Materialien hinweg.

Nanochrome I

Kompakte, vielseitige PVD-Plattform für Forschung und Pilotproduktion

Das Nanochrome™ I von Intlvac Thin Film ist ein leistungsstarkes F&E- und Pilot-System für die Physikalische Gasphasenabscheidung (PVD), das für Flexibilität, Präzision und Benutzerfreundlichkeit entwickelt wurde. Mit kleinem Platzbedarf, kosteneffizientem Betrieb und Mehrprozessfähigkeit ist es die ideale Lösung für die Entwicklung von Dünnschichten über ein breites Spektrum fortschrittlicher Materialien hinweg.

Hauptmerkmale

Elektronenstrahlverdampfung mit 4- oder 6-Tiegel-Elektronenstrahlkanonen für präzise Materialsteuerung

Variable Winkelabscheidung über eine Schrittmotor-gesteuerte Bühne für Mehrwinkel-Beschichtungsanwendungen

Direkt wassergekühlte, rotierende Substratbühne sorgt für optimale thermische Kontrolle und gleichmäßige Schichtabscheidung

Mehrprozessbetrieb während eines einzigen Abpumpzyklus:

  • Elektronenstrahlverdampfung
  • Magnetron-Sputtern
  • Ionenstrahlätzen

Warum Nanochrome™ I wählen?

 Überlegene Merkmale:

  • Ideal für F&E-Labore und Pilotproduktionsumgebungen
  • Anpassbar an Ihre Material- und Prozessanforderungen
  • Kompakt, sauber und einfach zu bedienen
  • Mehrfachtechnologien in einer einzigen Plattform vereint

Optimiert für fortschrittliche Dünnschichtanwendungen

Ob Ihr Schwerpunkt auf Präzisionsoptik, Halbleitern oder dieelektrischen Beschichtungen liegt – das Nanochrome™ I ermöglicht hochwertige Dünnschichtabscheidung für Materialien von Metallen bis hin zu komplexen Dielektrika.

Intelligentes Kammerdesign

  • Vakuumkammer im Klappgehäuse-Design für vollständigen Zugang zu den internen Komponenten
  • Komplett aus Edelstahl gefertigt mit elektropolierten Oberflächen für einen ultrareinen Betrieb
  • Drei strategisch platzierte Sichtfenster zur Echtzeitüberwachung von Quelle und Substrat
  • Instrumentenrack wahlweise links oder rechts für eine ergonomische Integration im Labor

Maßgeschneiderte Konfigurationen für Ihren Workflow

Wählen Sie aus einer Vielzahl von Substrat-Handling-Optionen, um Ihre spezifischen Abscheidungsanforderungen zu erfüllen:

  • Flachplatten-Planetensystem
  • Flip-Vorrichtung-Planetensystem
  • Planetenkuppel

Quarz-Halogen-Heizungen und vollautomatische Shutter-Systeme bieten vollständige Kontrolle über Temperatur und Abscheidung. Mehrere PVD-Quellenoptionen stehen zur Verfügung:

  • Thermische Verdampfungsboote
  • Einzel- und Mehrherd-Elektronenstrahlkanonen
  • Magnetron-Sputterquellen
Leistungsstarke Dünnschichtproduktion

Entdecken Sie die neueste Nanochrome™ I Broschüre

  • Ionenstrahlunterstützte Abscheidung (IBAD)
  • Ko-Verdampfung
  • Mehrschichtige Elektronenstrahlabscheidung
  • Thermische Verdampfung
  • Planar-Magnetron-Sputtern

Das Nanochrome™ I-System ist ein F&E-/Pilot-System für Physikalische Gasphasenabscheidung (PVD). Es sind verschiedene Konfigurationen möglich, die alle auf Ihre spezifischen Anforderungen zugeschnitten sind. Mit seinem kleinen Platzbedarf, niedrigen Betriebskosten und der einfachen Bedienung ist das Nanochrome-System die ideale Wahl für Ihre Forschungs- oder Pilotprojekte. Elektronenstrahlverdampfung oder Magnetron-Sputtern werden verwendet, um Dünnschichten für Präzisionsoptiken, Halbleiter- und dielektrische Materialien sowie Supraleiter zu erzeugen.

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