Zentrale Systemmerkmale

  • Branchenführende Ionenquellen:

    • Wie alle Intlvac-Systeme integriert das Nanochrome™ IV PARMS-System die weltweit renommierten Ionenquellen von Intlvac. Diese Quellen werden im eigenen Haus entwickelt, perfektioniert und rigoros getestet, um Substrate von höchster Qualität zu gewährleisten. Ob beim ersten oder hundertsten Einsatz – diese Ionenquellen liefern stets außergewöhnliche Leistung und stehen für dauerhafte Zuverlässigkeit.

  • Durchdachtes Design:

    • Das Nanochrome™ IV PARMS-System verfügt über ein Klappgehäuse-Design, das einen einfachen Zugang für Wartung und Justierungen bietet. Trotz seiner Größe als größtes Modell der Nanochrome™-Serie behält es eine kompakte Stellfläche, die den Platzbedarf minimiert – ideal für Labore jeder Größe.

  • Vielseitige Vakuumoptionen:

    • Das System bietet zwei Hochvakuum-Pumpenkonfigurationen: eine Kryopumpen-Anlage oder zwei Turbomolekularpumpen. Beide Varianten überzeugen durch exzellente Leistung – Kryopumpen ermöglichen kürzere Abpumpzeiten und einen besonders sauberen Betrieb, während Turbomolekularpumpen ein breiteres Gasspektrum verarbeiten und keine Regeneration erfordern. Diese Flexibilität erlaubt es den Anwendern, das System präzise an ihre spezifischen Anforderungen anzupassen.

Zentrale Systemmerkmale

  • Branchenführende Ionenquellen:

    • Wie alle Intlvac-Systeme integriert das Nanochrome™ IV PARMS-System die weltweit renommierten Ionenquellen von Intlvac. Diese Quellen werden im eigenen Haus entwickelt, perfektioniert und rigoros getestet, um Substrate von höchster Qualität zu gewährleisten. Ob beim ersten oder hundertsten Einsatz – diese Ionenquellen liefern stets außergewöhnliche Leistung und stehen für dauerhafte Zuverlässigkeit.

  • Durchdachtes Design:

    • Das Nanochrome™ IV PARMS-System verfügt über ein Klappgehäuse-Design, das einen einfachen Zugang für Wartung und Justierungen bietet. Trotz seiner Größe als größtes Modell der Nanochrome™-Serie behält es eine kompakte Stellfläche, die den Platzbedarf minimiert – ideal für Labore jeder Größe.

  • Vielseitige Vakuumoptionen:

    • Das System bietet zwei Hochvakuum-Pumpenkonfigurationen: eine Kryopumpen-Anlage oder zwei Turbomolekularpumpen. Beide Varianten überzeugen durch exzellente Leistung – Kryopumpen ermöglichen kürzere Abpumpzeiten und einen besonders sauberen Betrieb, während Turbomolekularpumpen ein breiteres Gasspektrum verarbeiten und keine Regeneration erfordern. Diese Flexibilität erlaubt es den Anwendern, das System präzise an ihre spezifischen Anforderungen anzupassen.

Nanochrome™ IV PARMS

Das Nanochrome™ IV PARMS (Plasma Assisted Reactive Magnetron Sputtering)-System ist ein wahres Arbeitstier in der modernen Sputtertechnologie. Basierend auf der zuverlässigen und vielseitigen Nanochrome-Plattform setzt das PARMS-System einen neuen Standard – mit unübertroffener Materialqualität und den fortschrittlichsten Funktionen der gesamten Nanochrome-Serie.

Herausragende Sputterleistung

Das Nanochrome™ IV PARMS-System unterstützt Magnetron-Sputtern unter verschiedenen Anregungsmodi, darunter Dual-AC, gepulstes DC, DC und RF. Diese Vielseitigkeit ermöglicht die Herstellung einer breiten Palette von Oxiden, darunter Tantal, Niob, Titan, Germanium und Silizium. Für Materialien, die mit dem Magnetron-Sputtern nicht kompatibel sind, sorgt die integrierte Elektronenstrahltechnologie dafür, dass das System nahezu jedes Material durch Verdampfung bearbeiten kann – und bietet damit unübertroffene Flexibilität. Sputterraten von bis zu 5 Å/s unterstreichen die Effizienz des Systems, während seine typische Präzision für konstante und gleichmäßige Ergebnisse über alle Anwendungen hinweg sorgt.

Wesentliche Vorteile

  • Außergewöhnliche Prozesswiederholbarkeit
  • Stabile Abscheidungsraten
  • Hochwertige Oxid- und Nitridfilmproduktion
  • Fähigkeit zur Herstellung von Filmen mit hoher Schichtanzahl
  • Optionale Load-Lock-Bedienung für höhere Effizienz

Reaktives Sputtern: Ein Wendepunkt

Was ist reaktives Sputtern?

Beim reaktiven Sputtern wird ein reaktives Gas – beispielsweise Sauerstoff oder Stickstoff – in die Kammer eingebracht, um mit einem reinen Metalltarget zu reagieren und einen reaktiven Film zu bilden. Dieses Verfahren ermöglicht die Herstellung hochwertiger Oxid- und Nitridfilme mit präziser Kontrolle der Schichteigenschaften, indem der Fluss des Reaktivgases reguliert wird.

Warum reaktives Sputtern wählen?

Im Vergleich zu Oxid- oder Nitridtargets bietet das reaktive Sputtern entscheidende Vorteile:

  • Höhere Haltbarkeit und Effizienz, da Metalltargets weniger spröde sind und eine bessere Wärmeleitfähigkeit besitzen.
  • Kosteneffizienz durch geringere Anfangskosten für Targetmaterialien.
  • Flexibilität, um Schichteigenschaften fein abzustimmen und schnellere Zykluszeiten zu erreichen – was die Gesamtproduktivität deutlich steigert.

Erweiterte Funktionen

Das Nanochrome™ IV PARMS-System verfügt über eine fortschrittliche optische Endpunktüberwachung für präzise Prozesskontrolle. Wichtige Merkmale:

  • Integrierte Reoptimierung
  • Breiter optischer Steuerbereich von 350–1650 nm
  • Kompatibel mit führenden optischen Designsoftwares
  • Ideal für Breitband-AR-Beschichtungen, V-Coatings, Stufenfilter, Notch-Filter und Multiband-Pass-Anwendungen

Load-Lock-System

Ein optionales Load-Lock-System, wahlweise in manueller oder automatischer Konfiguration, ermöglicht den Probenwechsel unter Vakuum. Dadurch werden Stillstandzeiten reduziert und die Prozesseffizienz erhöht, bei Abpumpzeiten von unter 10 Minuten.

Wer profitiert vom Nanochrome™ IV PARMS?

Das Nanochrome™ IV PARMS-System ist ideal für die Großserienproduktion von präzisen optischen Beschichtungen, Filtern, Antireflexbeschichtungen, Halbleitern, dieelektrischen Materialien und Supraleitern. Es wurde als Schlüsselkomponente für die Fertigung entwickelt – nicht nur als ergänzendes Werkzeug – und beherrscht fortschrittliche Verfahren wie ionenstrahlunterstütztes Sputtern, Ko-Sputtern und optische Endpunktüberwachung.

Anwendungen


Präzisionsoptische Beschichtungen und Filter


Antireflexbeschichtungen


Halbleiter und Dielektrika


Supraleiter

Das Nanochrome™ IV PARMS-System verkörpert die perfekte Balance aus Innovation, Präzision und Effizienz – und ist damit die ultimative Lösung für hochmoderne Sputter- und Beschichtungsanwendungen.

Schritt in die Zukunft der Photonik

Intlvacs Lithiumniobat-Foundry

Verfügbar als Cluster-Tool, Einzelmodule oder In-House-On-Demand-Service.

Nanoquest II IBE

Hochaspektverhältnis-Ätzen

Nanoquest II ist ein präzises Ionenstrahl-Ätzsystem, das für fortgeschrittene F&E in der Herstellung photonischer Bauelemente entwickelt wurde. Mit einer Breitstrahl-Ionenquelle und anpassbarer Substratbewegung ermöglicht es einen glatten, gleichmäßigen Materialabtrag auf LiNbO₃ und anderen anspruchsvollen Materialien. Die einstellbare Energiekontrolle, In-situ-Kühlung und flexiblen Maskierungsoptionen gewährleisten eine herausragende Ätzqualität und machen das System ideal für die Fertigung der nächsten Generation von Lithium-Niobat-Komponenten.

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Nanochrome IV PARMS

Präzise Oxid- und Nitridschichten

Nanochrome™ IV nutzt Plasma Assisted Reactive Magnetron Sputtering (PARMS), um dichte, gleichmäßige Oxid- und Nitridfilme abzuscheiden, die für die Herstellung von Lithium-Niobat-Bauelementen essenziell sind. Diese Schichten ermöglichen präzises Masking, Passivierung und optisches Tuning, während sie makellose Materialgrenzflächen erhalten. Integriert in die Intlvac-Clusterumgebung sorgt Nanochrome™ IV für saubere, reproduzierbare Prozesse in leistungsstarken photonischen und quantenbasierten Anwendungen.

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Aegis DLC

Hartkohlenstoff-Ätzmaske

Das Aegis DLC-System ermöglicht präzises Ätzen für die Herstellung von LNOI-Wellenleitern mittels plasmaunterstützter chemischer Gasphasenabscheidung (PECVD) einer diamantähnlichen Kohlenstoff-Hartmaske. Dank ihrer hohen Härte, Haftung und Selektivität gewährleistet sie eine exakte Musterübertragung während des Ionenstrahlätzens und erzeugt glatte, hochpräzise Lithiumniobat-Strukturen – ein wesentlicher Bestandteil moderner photonischer und quantentechnologischer Bauelemente.

Mehr erfahren

Nanochrome IV PARMS

Lithium-Niobat-Foundry

Das Nanochrome™ IV nutzt Plasma Assisted Reactive Magnetron Sputtering (PARMS), um hochgradig gleichmäßige Oxid- und Nitrid-Dünnschichten abzuscheiden, die in allen Phasen der LiNbO₃-Bauteilfertigung unverzichtbar sind. Diese Präzisionsbeschichtungen liefern die strukturellen, optischen und schützenden Schichten, die für hochleistungsfähige photonische Bauelemente erforderlich sind.

Durch PARMS werden Materialien wie SiO₂, Si₃N₄ und Al₂O₃ als dichte, konforme Schichten abgeschieden, die sich ideal für Maskierung, Passivierung und optische Schichtgestaltung eignen. Während des High-Aspect-Ratio-Ätzens im Nanoquest II dienen diese robusten Beschichtungen als widerstandsfähige Hartmasken, die die Strukturtreue bewahren und Oberflächen unter anspruchsvollen Plasma- und Ionenstrahlbedingungen schützen. Nach der Nanostrukturierung fungieren dieselben dielektrischen Schichten als Tuning- oder Passivierungslagen, verbessern die optische Führung und steigern die Zuverlässigkeit der Bauelemente.

Nahtlos in die Cluster-Umgebung von Intlvac integriert, ermöglicht der PARMS-Prozess einen durchgängigen, kontaminationsfreien Workflow – von der Abscheidung über das Ätzen bis hin zum Lift-Off. Diese Closed-System-Integration gewährleistet hohe Reproduzierbarkeit und makellose Grenzflächen und versetzt Forschende wie auch Hersteller in die Lage, die Grenzen der Quantenphotonik, der Hochgeschwindigkeitskommunikation und integrierter optischer Systeme weiter voranzutreiben.

Aegis DLC

Lithium-Niobat-Foundry

Das Aegis DLC-System stellt eine entscheidende Funktionsschicht für präzises Ätzen bei der Herstellung von LNOI (Lithium Niobate on Insulator)-Wellenleitern dar. Durch plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) wird eine dünne diamantähnliche Kohlenstoffschicht (DLC) aus Kohlenwasserstoff-Vorstufen abgeschieden, um eine Hartmaske mit außergewöhnlicher Härte, Haftung und Ätzselektivität zu bilden.

Nach der Abscheidung wird die DLC-Schicht mittels Sauerstoffplasma strukturiert, um feine Strukturen mit hoher Auflösung zu definieren. Anschließend werden diese Muster durch Argon-Ionenstrahlätzen (IBE) in das darunterliegende Lithiumniobat-Substrat übertragen – mit Nanometerpräzision und glatten, vertikalen Seitenwänden. Eine abschließende Reinigung entfernt die DLC-Maske und legt fein strukturierte LNOI-Wellenleiter mit herausragender optischer Leistung frei.

Durch die Kombination mechanischer Robustheit mit präziser Prozesskontrolle gewährleistet das Aegis DLC-Modul eine reproduzierbare, hochpräzise Musterübertragung – ein unverzichtbarer Schritt bei der Herstellung zuverlässiger und skalierbarer photonischer Bauelemente für fortschrittliche Kommunikations- und Quantentechnologien.

Nanoquest II

Lithium-Niobat-Foundry

Das Nanoquest II nutzt eine Breitstrahl-Ionenquelle in Kombination mit einer vollständig einstellbaren Substratbewegung, um einen präzisen, rein physikalischen Materialabtrag durch Impulsübertragung von inerten Ionen wie Argon zu erzielen. Dieser Prozess elimininiert die chemische Abhängigkeit klassischer Plasmaätzverfahren und ermöglicht eine außergewöhnliche Kontrolle über Geometrie, Gleichmäßigkeit und Oberflächenqualität.

Mit seiner materialunabhängigen Ionenstrahl-Ätzfähigkeit kann das Nanoquest II selbst die chemisch inertesten Materialien bearbeiten, darunter LiNbO₃, SiO₂ und Saphir. Einstellbare Einfallswinkel des Ionenstrahls und Substratrotation erzeugen glatte, vertikale Seitenwände ohne Redepositionsartefakte, während tunable Ionenenergie und In-situ-Kühlung die optische Integrität bewahren, indem Schäden und Kontaminationen auf ein Minimum reduziert werden.

Der kollimierte Ionenstrahl des Systems sorgt für konstante Ätzraten über Wafer bis 200 mm und die Kompatibilität mit einer Vielzahl von Maskenmaterialien – einschließlich Metallen und mehrlagigen Dielektrika – erhöht die Prozessflexibilität. Optionale Tilt-Ätzzyklen und Strahlneutralisation sichern eine optische Oberflächenqualität, wodurch das Nanoquest II zum zentralen Werkzeug für die fortschrittliche photonische Fertigung in Lithium-Niobat und anderen anspruchsvollen Substraten wird.

Leistungsstarke Dünnschichtproduktion

Entdecken Sie die neueste Nanochrome™ IV PARMS Broschüre

  • Optische Endpunktüberwachung
  • Präzise Oxid- und TCO-Dünnschichtabscheidung
  • Steuerungssystem und Automatisierung
  • Erweitertes Substrathaltesystem

Das Nanochrome™ IV PARMS-System erzeugt hochwertige dielektrische Dünnschichten durch reaktives Magnetron-Sputtern, wobei die Endverdichtung der Schicht direkt an der Substratoberfläche durch eine Hochstrom-, Niedrigenergie-Ionenquelle erfolgt. Dieses Verfahren ermöglicht schnellere Abscheidungszeiten und höhere Raten durch den Betrieb bei niedrigem Druck.

Laden Sie jetzt unsere neueste Broschüre herunter und erfahren Sie mehr über Intlvacs führendes Dünnschichtabscheidungssystem, dem Industrieführer weltweit vertrauen.

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