• Unabhängige Steuerung von Ionenenergie, Ionendichte und Einfallswinkel
• Kontaminationsresistente Ionenquelle der nächsten Generation ohne Filament
• Fähig zu gleichmäßigem Ätzen auf Edelmetallen und exotischen Dünnschichtmaterialien
  

• Substratrotation und optimierte Ionenoptik verbessern die Prozesskonstanz
• Einstellbarer Bühnenwinkel optimiert den Prozess und entfernt sekundäre Seitenwandabscheidungen
• Wassergekühlte Doppelachsenbühne unterstützt bis zu 3 Platten für hohen Durchsatz
  
• Flachplatten-Planetensystem mit variablem Einfallswinkel
  
• Direkt wassergekühlte Platten für präzise Temperaturkontrolle
  

Highlights:

• Plasmaentladung: Hochdichtes Plasma durch RF-ICP-Technologie, filamentlos für längere Betriebsdauer
• Ionenoptik: Selbstjustierend für konstante Läufe und verlängerte Gitterlebensdauer, gefertigt aus robustem Molybdän
• Modulares Design: Vollständig von der Kammer aus zugänglich, mit einstellbarem Wurfabstand
  
• Stromversorgung: Frequenzabgestimmte RF-Versorgung mit schneller Reaktion und hoher Kontaminationsresistenz
  
• Steuerungssystem: Bedienung über Intlvacs LabVIEW-Oberfläche und Allen-Bradley-SPS
  

• Verwaltung der elektropneumatischen Aktoren
• Automatisiertes Abpumpen und Belüften der Kammer über den Intlvac AutoVac Controller
• Vollständige Integration aller Prozessparameter
  

• Vielseitig und wirtschaftlich
• Hervorragende Ätzgleichmäßigkeit
• Direkt wassergekühlte Bühne

Das Nanoquest III Ionenstrahl-Ätzsystem kombiniert eine wassergekühlte, rotierende Bühne, eine 16-cm-RF-Ionenquelle, eine leicht zugängliche Edelstahl-Vakuumkammer, ein kryogenes Hochvakuumpumpsystem, automatisches Abpumpen und Belüften, Druckmessung vom Atmosphärendruck bis ins Hochvakuum, Massendurchflussregler, Kammergehäuse und eine elektronische Steuerkonsole.

Für den Reinraumbetrieb ausgelegt, hält das Nanoquest III das Ätzmodul im Servicebereich des Reinraums. Systemkomponenten wie Shields und andere wartungsrelevante Teile sind im Servicebereich leicht zugänglich. Ein Doppeltür-Ätzmodul ermöglicht Wartung von beiden Seiten der Kammer. UHV-Designrichtlinien stellen sicher, dass Ätzmodul und Load-Lock-Kammer sehr niedrige Basisdrücke erreichen. Hochgeschwindigkeits-Vakuumpumpen sorgen nicht nur für schnelles Abpumpen, sondern reduzieren auch Gaskollisionen im Ionenstrahl.