Nanoquest Pico

Kompakte Ion-Milling-Plattform für Dünnschicht-F&E

Das Intlvac Nanoquest Pico ist die ultimative kompakte Ion-Milling-Plattform für die Entwicklung und Forschung von Dünnschichtanwendungen wie Datenspeicher, Spintronik und Halbleiter. Mit Fokus auf Flexibilität kann das System – je nach Anwendung – für eine Vielzahl von Ionenquellen und Prozessgasen konfiguriert werden.

Mit einer 14"-D-förmigen Kammer und einem sehr kleinen Footprint ist das Nanoquest Pico so konzipiert, dass es sich problemlos in jede Laborumgebung integrieren lässt. Es ist ideal für das schnelle Ätzen von Dünnschichten, die nicht mit herkömmlichen nasschemischen oder trockenen Ätzverfahren kompatibel sind.

Nanoquest Pico

Kompakte Ion-Milling-Plattform für Dünnschicht-F&E

Das Intlvac Nanoquest Pico ist die ultimative kompakte Ion-Milling-Plattform für die Entwicklung und Forschung von Dünnschichtanwendungen wie Datenspeicher, Spintronik und Halbleiter. Mit Fokus auf Flexibilität kann das System – je nach Anwendung – für eine Vielzahl von Ionenquellen und Prozessgasen konfiguriert werden.

Mit einer 14"-D-förmigen Kammer und einem sehr kleinen Footprint ist das Nanoquest Pico so konzipiert, dass es sich problemlos in jede Laborumgebung integrieren lässt. Es ist ideal für das schnelle Ätzen von Dünnschichten, die nicht mit herkömmlichen nasschemischen oder trockenen Ätzverfahren kompatibel sind.

Zentrale Vorteile

  • Kompakte, kostengünstige Plattform
  • Aktiv gekühlte Bühne
  • Substratrotation und -neigung
  • Hochgeschwindigkeits-Vakuumpumpen für schnelles Abpumpen
  • Mehrere Konfigurationsmöglichkeiten

Anwendungen

  • Halbleiter
  • Nanotechnologie
  • Photonik
  • Spintronik

Prozessmethoden

  • Ionenstrahlätzen (IBE)
  • Reaktives Ionenstrahlätzen (RIBE)

Materialien

  • Edelmetalle 
  • Isolatoren
  • Diamantschichten
  • Optische Wellenleiter
  • Supraleitende Materialien
  • Magnetische Materialien

Ionenstrahlätze

Das Nanoquest Pico ist für das Ätzen kleiner Wafer und Dies ausgelegt und damit besonders gut geeignet für schnelles, präzises Ätzen in F&E-Umgebungen. Das System unterstützt sowohl Ionenstrahl- als auch reaktives Ionenstrahlätzen und bietet mehrere Ionenquellen-Konfigurationen, um eine breite Palette von Materialien und Prozessanforderungen abzudecken.

Spezifikationen

Substrataufnahme:

  • Rotierender, gekühlter Substrathalter
  • Rotationsgeschwindigkeit: 0–10 U/min

Substratgröße:

  • Bis zu 100 mm Durchmesser

Ion-Milling-Optionen:

  • 1 cm DC-Ionenquelle:
    • 10 mA Ionenstrahlstrom
    • Bis zu 500 eV Ionenenergie
  • 4 cm DC-Ionenquelle:
    • Bis zu 120 mA Ionenstrahlstrom
    • 1200 eV Ionenenergie
    • Filament-Neutralisator
  • 4 cm RFICP-Ionenquelle:
    • 150 mA Ionenstrahlstrom
    • 100–1200 eV Ionenenergie
    • Niedrigenergie-Fernneutralisator
  • 8 cm DC-Ionenquelle:
    • 250 mA Ionenstrahlstrom
    • 100–1200 eV Ionenenergie
    • Filament-Neutralisator
Ionenstrahlätze

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  • Kompakte, kostengünstige Plattform
  • Aktiv gekühlte Bühne
  • Substratrotation und -neigung
  • Hochgeschwindigkeits-Vakuumpumpen für schnelles Abpumpen
  • Mehrere Konfigurationsmöglichkeiten

Das Nanoquest Pico ist die ultimative kompakte Ion-Milling-Plattform für die Forschung und Entwicklung von Dünnschichtanwendungen wie Datenspeicher, Spintronik und Halbleiter. Es kann – je nach Anwendung – für eine Vielzahl von Ionenquellen und Gasen konfiguriert werden. Mit seiner 16"-D-förmigen Kammer und dem kleinen Footprint lässt es sich in jedes Laborumfeld integrieren.

Das Nanoquest Pico ist darauf ausgelegt, kleine Wafer und Dies zu ätzen und ist ideal für das schnelle Ätzen von Dünnschichten, die auf konventionelle nasschemische oder trockene Ätzprozesse nur schlecht ansprechen.

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