Nanochrome IV IBSD

Das Nanochrome IV IBSD beschichtet Substrate bis 250 mm Durchmesser und kleiner. Es kann wahlweise für Load-Lock-Betrieb oder Batch-Beschickung mit offenem Luftzugang konfiguriert werden. Mit seiner „Sputter-up“-Geometrie bringt es eine erstklassige PVD-Abscheidung mit geringer Partikelbelastung in die Dünnschichtfertigung. Die Technologie sputtert Metalle und Dielektrika bei niedrigem Druck, ganz ohne bestromte Kathoden. Ausgestattet mit einem Mehrfach-Targetkarussell, einer hochdrehenden Substratbühne, Ion-Assist-Funktion, QCM-Messtechnik und dynamischer optischer Prozesskontrolle für optische Anwendungen erzeugt das System hochdichte Schichten mit geringer Partikelzahl, glatten Oberflächen und stabilen Materialeigenschaften.

Nanochrome IV IBSD

Das Nanochrome IV IBSD beschichtet Substrate bis 250 mm Durchmesser und kleiner. Es kann wahlweise für Load-Lock-Betrieb oder Batch-Beschickung mit offenem Luftzugang konfiguriert werden. Mit seiner „Sputter-up“-Geometrie bringt es eine erstklassige PVD-Abscheidung mit geringer Partikelbelastung in die Dünnschichtfertigung. Die Technologie sputtert Metalle und Dielektrika bei niedrigem Druck, ganz ohne bestromte Kathoden. Ausgestattet mit einem Mehrfach-Targetkarussell, einer hochdrehenden Substratbühne, Ion-Assist-Funktion, QCM-Messtechnik und dynamischer optischer Prozesskontrolle für optische Anwendungen erzeugt das System hochdichte Schichten mit geringer Partikelzahl, glatten Oberflächen und stabilen Materialeigenschaften.

Wesentliche Merkmale

  • HV/UHV-kompatible Prozesskammer
  • Gittergeführte Breitstrahl-Ionenquellen
  • Wassergekühltes Multi-Target-Karussell
  • Rotierende, beheizbare Substratbühne
  • Hervorragende Pumpgeschwindigkeiten

Ionenstrahl-Sputterabscheidung

Bei der Ion Beam Sputter Deposition (IBSD) wird das Sputtertarget außerhalb des Plasma­bereichs positioniert. Eine primäre Breitstrahl-Ionenquelle erzeugt ein internes Plasma und richtet einen energiereichen Ionenstrahl (<1500 eV) auf das Sputtertarget. An der Targetoberfläche werden Atome und Moleküle herausgelöst, deren Energie- und Flussverteilung durch die Eigenschaften des Ionenstrahls, das Targetmaterial und deren geometrische Ausrichtung bestimmt wird.

Erweiterte Funktionen für ein nahtloses Anwendererlebnis


Benutzerfreundliche Automatisierung

Das Nanochrome™ IV IBSD ist ein kompaktes, vollautomatisches Ionenstrahl-Sputtersystem zur Abscheidung hochwertiger Metall- und Dielektrik-Dünnschichten. Die HV/UHV-kompatible, elektropolierte Edelstahlkammer verhindert Ausgasungsprobleme, wie sie bei Aluminiumkammern häufig auftreten, und ermöglicht herausragende Basisdruckwerte. In Kombination mit ölfreier Trockenpumpe und Hochdurchsatz-Optionen wie Load-Lock-Substrathandling gewährleistet das System eine saubere, stabile Vakuumumgebung, ideal für F&E ebenso wie für die Produktion.

Erweiterte Prozesssteuerung

Das System verfügt über eine gittergeführte Breitstrahl-Ionenquelle mit hoher Stromdichte und einem Energiebereich von 100 bis 1500 eV, die sowohl mit inerten als auch reaktiven Gasen wie Sauerstoff und Stickstoff betrieben werden kann. Ein Neutralisator erzeugt einen quasi-neutralen Strahl und ermöglicht so eine stabile Abscheidung auf Dielektrika. Eine sekundäre Ionenquelle steht für In-situ-Vorreinigung und ionenstrahlunterstützte Abscheidung (IBAD) zur Verfügung, was die Filmdichte erhöht und anspruchsvolle reaktive Prozesse ermöglicht. Die präzise Winkelsteuerung und das Indexieren eines Multi-Target-Karussells erlauben die Herstellung mehrlagiger Strukturen mit hoher Reproduzierbarkeit.

Engineer­te Schichtuniformität

Eine hochdrehende, azimutal rotierende Substratbühne sorgt für außergewöhnliche Schichtgleichmäßigkeit, indem sie Inhomogenitäten in der Plume effektiv ausmittelt. Das System unterstützt passives und aktives Thermomanagement, einschließlich IR-Wärmelampen für temperaturgeregelte Abscheidung. Die vollständige Systemautomatisierung umfasst Pumpdown-Sequenzen, Rezeptausführung und Closed-Loop-Prozesskontrolle. Eine benutzerfreundliche grafische Oberfläche bietet Zugriff auf Live-Status, Systemdiagnose und Mehrschicht-Rezeptverwaltung und unterstützt ein konstantes Dünnschichtwachstum, optional ergänzt durch In-situ-Überwachungstools.

Ion Beam Sputter Deposition

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  • Niederdruckabscheidung
  • Dichte, saubere Schichten
  • Benutzerfreundliche Automatisierung
  • Erweiterte Ionenquellen- & Abscheidungssteuerung

Das Nanochrome™ IV Ion Beam Sputter Deposition (IBSD) System ist ein physikalisches Gasphasenabscheidungsverfahren, bei dem eine entfernte Breitstrahl-Ionen/Plasmaquelle auf ein geerdetes (oder flottierendes) Sputter-Target gerichtet wird. Die bombardierenden Ionen sputtern Material aus dem Target und erzeugen einen atomaren oder molekularen Dampfstrom, der auf dem Substrat eine Dünnschicht kondensiert.

Laden Sie unsere aktuelle Broschüre herunter, um mehr über das Nanochrome™ IV Ion Beam Sputter Deposition System zu erfahren.

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