Ionenstrahl-Ätzen und Strukturieren

Das Nanoquest II ist ein präzisionsentwickeltes Ion Beam Etching (IBE) System, das für die strengen Anforderungen der hochentwickelten Mikrofabrikation, Photonik und Materialforschung ausgelegt ist. Aufbauend auf einer Ultrahochvakuum-(UHV)-Plattform mit Edelstahlkonstruktion und aktiver Thermalkontrolle bietet das Nanoquest II unübertroffene Stabilität, Sauberkeit und Prozesswiederholbarkeit.

Im Herzen des Systems befindet sich eine 22-cm-RF-Inductively Coupled Plasma (ICP) Gitterionenquelle, die Ionenenergien von 100 bis 1200 eV bei Ionenströmen von über 1 Ampere liefert. Mit seiner universellen Ätzfähigkeit eignet sich das System hervorragend für eine große Bandbreite an Materialien, darunter Diamant, kristalline Substrate wie Silizium, Siliziumdioxid, Titandioxid, Quarz, Glas und Lithiumniobat sowie alle Klassen von Metallen.

Das filamentlose Ionisationsdesign sorgt für eine lange Lebensdauer bei minimalem Wartungsaufwand, während selbstjustierende Ionenoptiken für hochgradig gleichmäßige Strahlprofile und konstante Prozessergebnisse sorgen.

Leistungszentrum für Nanofabrikation

  • Delayering und Querschliffe von integrierten Schaltungen
  • MEMS-Fertigung und Prototyping
  • Strukturierung integrierter Schaltkreise
  • Ätzen von Lithium-Niobat-Bauelementen

  • Herstellung von Josephson-Kontakten
  • Verarbeitung von Magnetic Tunnel Junctions (MTJ)
  • Spintronik-Bauelemente
  • Dünnschicht-supraleitende und magnetische Strukturen

  • Herstellung und Verfeinerung von Wellenleitern
  • Schräg- und Oberflächenrelief-Gitterstrukturen
  • Laserfacetten
  • Photonische Integrierte Schaltkreise (PICs)

  • Entwicklung von Submikrometer-Strukturen
  • Prototypenfertigung von Bauelementen
  • Fortgeschrittene akademische und industrielle F&E
  • Komplexe Multilayer-Musterübertragung

  • LED-Ätzen und Strukturierung
  • Herstellung von Photodetektoren
  • Verarbeitung integrierter optischer Schaltungen
  • Dünnschicht-optoelektronische Bauelemente

  • Hochauflösende Strukturanalysen
  • Zusammensetzungsstudien
  • Querschnittsbewertung
  • Präzises Materialdünnen

Innovation auf Knopfdruck

Live video feed of the rotating stage operating inside the Nanoquest II system
Remote-Videoansicht der Transferplatte im Nanoquest II während des Betriebs: Die Bühne rotiert mit 0–30 U/min bei einem Neigungswinkel von ±90°.

Automatisierte Bühne steigert die Produktivität

Eine wassergekühlte, rotierende und neigbare Substratbühne ermöglicht eine präzise thermische Regelung und exaktes Winkelätzen. Dadurch lassen sich Seitenwandprofile gezielt gestalten, Submikrometer-Strukturtreue erreichen und temperaturempfindliche Schichten schützen. Das Nanoquest II integriert eine HMI-basierte Automatisierungsplattform mit vollständiger Rezeptsteuerung, Prozessdatenaufzeichnung und benutzerabhängigen Zugriffsrechten – ideal sowohl für die schnelle Prozessentwicklung als auch für reproduzierbare Produktionsläufe.

Mit einer In-Plane-Gleichmäßigkeit von ±3 % über ein 100-mm-Substrat und einer Wafer-zu-Wafer-Wiederholbarkeit von ±2 % bietet das Nanoquest II eine robuste High-Yield-Lösung für Anwendungen, die schadensarme, hochpräzise Musterübertragung in optischen, elektronischen und quantenbasierten Bauelementen erfordern.

Willkommen in der Zukunft der Photonik

Intlvacs Lithium-Niobat-Foundry

Verfügbar als Cluster-Tool, Einzelmodule oder In-House On-Demand-Service.

Nanoquest II IBE

Hochaspektverhältnis-Ätzen

Nanoquest II ist ein präzises Ionenstrahl-Ätzsystem, das für fortgeschrittene F&E in der Herstellung photonischer Bauelemente entwickelt wurde. Mit einer Breitstrahl-Ionenquelle und anpassbarer Substratbewegung ermöglicht es einen glatten, gleichmäßigen Materialabtrag auf LiNbO₃ und anderen anspruchsvollen Materialien. Die einstellbare Energiekontrolle, In-situ-Kühlung und flexiblen Maskierungsoptionen gewährleisten eine herausragende Ätzqualität und machen das System ideal für die Fertigung der nächsten Generation von Lithium-Niobat-Komponenten.

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Nanochrome IV PARMS

Präzise Oxid- und Nitridschichten

Nanochrome™ IV nutzt Plasma Assisted Reactive Magnetron Sputtering (PARMS), um dichte, gleichmäßige Oxid- und Nitridfilme abzuscheiden, die für die Herstellung von Lithium-Niobat-Bauelementen essenziell sind. Diese Schichten ermöglichen präzises Masking, Passivierung und optisches Tuning, während sie makellose Materialgrenzflächen erhalten. Integriert in die Intlvac-Clusterumgebung sorgt Nanochrome™ IV für saubere, reproduzierbare Prozesse in leistungsstarken photonischen und quantenbasierten Anwendungen.


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Aegis DLC

Hartkohlenstoff-Ätzmaske

Aegis DLC ermöglicht präzises Ätzen für die Herstellung von LNOI-Wellenleitern durch plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) einer diamantähnlichen Kohlenstoff-Hartmaske. Die hohe Härte, exzellente Haftung und ausgeprägte Selektivität gewährleisten eine präzise Musterübertragung während des Ionenstrahlätzens und erzeugen glatte, hochfidele Lithium-Niobat-Strukturen, die für fortschrittliche photonische und Quantenbauelemente unerlässlich sind.


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Ionenstrahl-Ätzen und -Fräsen

Entdecken Sie unsere neuesten Lösungen für die Ionenstrahl-Ätztechnologie

  • Optimiertes und flexibles Design
  • Robuste Kammeroptionen
  • Hochleistungs-Vakuum & Ionenquelle
  • Präzisionsbühne & Prozesskontrolle
  • Automatisierung, Daten & Monitoring

Das Nanoquest II ist das Kernsystem in Intlvacs Nanoquest Suite präziser Ionenstrahl-Ätz- und Fräswerkzeuge und wurde für fortgeschrittene Materialmodifikation und Musterübertragung entwickelt. Aufbauend auf den kompakten Systemen Nanoquest Pico und Nanoquest I bietet es eine verbesserte Strahlkontrolle, überlegene Gleichmäßigkeit und stabile Leistung über Metalle, Dielektrika und Halbleiter hinweg. Als System zwischen F&E- und Produktionsmaßstab liefert das Nanoquest II die ideale Balance aus Flexibilität, Präzision und Durchsatz für Forschung und Pilotfertigung.

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