自 1996 年以来一直提供技术解决方案
在 Intlvac,我们专注于刻蚀、蒸发、溅射以及等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 工艺技术,这些领域构成了我们的核心专长。
凭借在薄膜镀膜与刻蚀设备领域数十年的专业经验,Intlvac 已将多种先进工艺臻于成熟——包括电子束与热蒸发、直流磁控溅射以及等离子体辅助反应溅射。
在我们的在线商城中,您可以找到 Mark I 和 Mark II 离子源的所有组件。现货供应,次日发货。
Intlvac 是 Leybold 真空产品及认证服务在加拿大的独家分销商
MIDAS 金属化系统 是业内领先的解决方案,可在光纤上形成单层或多层对称金属镀膜。无论是光纤端面、中段还是窗口区域,这些镀层都能确保气密封装光电组件中的最佳性能。系统还支持在圆柱形杆或管状部件上沉积径向对称的材料堆叠,展现出无与伦比的多功能性。
MIDAS 系统采用紧凑型洁净室设计,集成了先进的装载锁结构与低能等离子体预清洗功能。该工艺可在镀膜前去除残留的碳氢化合物与水汽污染,从而保证卓越的附着力。
MIDAS 系统的核心是一座创新的镀膜腔体,配备精密排列的溅射阴极阵列,确保金属及多层镀膜的均匀分布。
MIDAS 金属化系统支持多种应用,包括:
镀膜于任意几何形状的光纤
单芯及带状光纤镀膜
中段窗口、带连接器或护套部件的镀膜
光纤端面、分支、跳线及扇出组件
分布式温度传感 (DTS)、光纤光栅 (FBG)、光隔离器与滤波器
波导、成像导管与光导
杆状与管状外表面的径向镀膜
性能指标:
MIDAS 系统 旨在满足并超越最高行业标准,包括 Bellcore/Telcordia 和 MIL-STD-883。从无与伦比的精度到高性价比的运行表现,它为现代光纤金属化工艺提供了企业所需的一切解决方案。
在 Intlvac Thin Film,我们专注于高精度光纤金属化与光纤端面薄膜镀膜技术,这些工艺已成为行业标杆。凭借先进的工程专业知识与无与伦比的质量控制,我们的解决方案旨在满足电信、数据中心、航天、国防舰艇、海底设备、机器人等多个行业的严格需求。
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