自 1996 年以来一直提供技术解决方案
在 Intlvac,我们专注于刻蚀、蒸发、溅射以及等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 工艺技术,这些领域构成了我们的核心专长。
凭借在薄膜镀膜与刻蚀设备领域数十年的专业经验,Intlvac 已将多种先进工艺臻于成熟——包括电子束与热蒸发、直流磁控溅射以及等离子体辅助反应溅射。
在我们的在线商城中,您可以找到 Mark I 和 Mark II 离子源的所有组件。现货供应,次日发货。
Intlvac 是 Leybold 真空产品及认证服务在加拿大的独家分销商
深入了解我们的技术白皮书,探索驱动前沿科技的独特工程设计与工艺。
Intlvac Inc. 和 Intlvac Thin Film 在全球范围内提供薄膜沉积与刻蚀系统已有 30 多年的经验。
我们精通多种工艺,包括磁控源与离子束反应溅射、蒸发和化学气相沉积。 我们的薄膜广泛应用于多个领域:从紫外到远红外的防反射镀膜,到用于红外探测的活性层、将质子转换为电子的功能层,以及磁场测量用薄膜。借助我们的宽束离子束 技术,我们还能使用惰性或反应性气体对薄膜进行选择性刻蚀。
凭借强大的科研团队、演示实验室以及内部检测能力,我们始终引领行业前沿。我们的专业技能让我们能够为客户量身定制解决方案与工艺,帮助他们取得成功。
获取更多关于我们薄膜沉积与刻蚀系统的详细资料。