定制技术解决方案

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离子束刻蚀与铣削

  • 复杂多层镀膜堆
  • 深度 MEMS 与光子器件
  • 反应气体增强 (CAIBE/RIBE))
  • 斜角光栅与光波导
  • 集成电路去层技术
  • 组合区域阶梯刻蚀

薄膜系统与定制镀膜

  • 等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)
  • 物理气相沉积 (PVD)
  • 等离子体辅助反应磁控溅射 (PARMS)

空间环境模拟

  • 标准与定制热真空试验腔体 (TVAC)
  • 真空脱气系统方案

氢能技术

为多孔传输层和双极板提供高性价比、耐用且导电的金属镀膜

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我们如何助力您的下一个薄膜镀膜项目迈向新阶段?

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应用领域

Intlvac 为多种应用提供薄膜工艺解决方案,包括精密光学、滤光片、功率器件和电信领域。

  • 精密光学工业
  • 电子
  • 航空航天产业
  • 金属化工艺
  • MEMS(微机电系统)/ NEMS(纳机电系统)
  • 离子束刻蚀与铣削
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Intlvac 系统

在 Intlvac Thin Film,我们设计、研发并制造多种定制化和标准化系统,涵盖薄膜物理气相沉积 (PVD)、刻蚀以及等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)

  • Nanochrome 薄膜沉积
  • Nanoquest 离子束刻蚀
  • Nanoquest 离子束溅射沉积
  • Icarus 铟沉积系统
  • Electra 超高真空溅射系统
  • Aegis 类金刚石碳膜
  • Midas I 光纤金属化
  • 空间环境模拟
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Intlvac 薄膜镀膜解决方案

数十年来在薄膜镀膜与刻蚀设备设计和制造方面的经验,使 Intlvac 能够自主开发多种工艺系统。这些 工艺包括电子束蒸发、热蒸发、直流磁控溅射以及等离子体辅助反应溅射等方法。

金与铂

Intlvac Thin Film 自豪地位列全球黄金镀膜与沉积领域的领先者之一。黄金不仅拥有迷人的外观,更因其卓越的多功能性而备受青睐。二十多年来,我们不断探索多种工艺,并创造出一些独特而高效的黄金沉积方法。

增透膜

Intlvac 提供适用于多种基材和应用的抗反射(AR)镀膜,覆盖可见光(VIS)、近红外(NIR)、短波红外(SWIR)和中波红外(MWIR)波段。我们所有的镀膜均为非放射性。

光学滤光片

可定制的光学滤光片适用于多种应用,例如带通滤光片、长波通 (LWP) 滤光片、短波通 (SWP) 滤光片、中性密度滤光片等。