自 1996 年以来一直提供技术解决方案
在 Intlvac，我们专注于刻蚀、蒸发、溅射以及等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 工艺技术，这些领域构成了我们的核心专长。
凭借在薄膜镀膜与刻蚀设备领域数十年的专业经验，Intlvac 已将多种先进工艺臻于成熟——包括电子束与热蒸发、直流磁控溅射以及等离子体辅助反应溅射。
在我们的在线商城中，您可以找到 Mark I 和 Mark II 离子源的所有组件。现货供应，次日发货。
Intlvac 是 Leybold 真空产品及认证服务在加拿大的独家分销商
Intlvac Thin Film 推出的 Nanoquest I 是目前最具多功能性的离子束研发平台，专为科研与开发设计。该系统既可用于刻蚀，也可用于薄膜沉积，提供无与伦比的控制力与灵活性。离子束技术通过对离子能量、离子电流密度和束流入射角的独立控制，实现精准且可重复的工艺过程——无论是进行简单的惰性刻蚀，还是沉积复杂的多层薄膜结构，Nanoquest I 都会是最理想的选择。
Nanoquest I 系统专为高性能、高要求的科研环境打造：
Nanoquest I 配备超高真空（UHV）腔体，采用不锈钢材料，并采用兼容UHV的工艺制造而成。其电抛光外壳不仅外观洁净、专业，还便于集成至无尘室环境中。
为提高产能并控制污染，Nanoquest I-LL 配置了先进的预真空腔：
系统采用基于 LabVIEW 的自动化控制界面，提供在 Windows 环境下对整个系统直观且全面的管理：
Nanoquest I 的基片载台专为高均匀性刻蚀与沉积设计，支持直径最大为6英寸的晶圆：
Intlvac 提供先进的离子束与等离子体处理解决方案，适用于精密刻蚀、薄膜沉积、表面改性以及基片清洗等工艺。每种技术均具备独特的性能优势——从高度可控、定向的离子束处理，到均匀稳定的等离子体工艺，使其能够在多种材料体系中实现优化的加工效果。依托数十年的真空工程经验，我们的系统专为满足航空航天、光学、半导体及科研应用中的严苛要求而设计。我们与客户紧密合作，为研发与量产环境提供可靠的、面向具体应用的定制解决方案。
离子束刻蚀是一种高度可控的物理溅射工艺，通过将高能离子定向轰击基片，实现精确的各向异性材料去除。宽束、准直的离子束可确保整个基片表面的优异均匀性，同时通过可编程的基片运动进一步提升工艺一致性。该工艺具有良好的重复性且不依赖化学反应，适用于先进薄膜图形化和高精度器件制造。
其他系统
化学辅助离子束刻蚀在离子轰击过程中，将反应性气体直接引入基片表面。局部的化学反应可提高材料去除速率并增强选择性，同时保持良好的方向性控制。CAIBE 特别适用于复合材料以及需要定制刻蚀特性的应用场景。
反应性离子束刻蚀结合了物理离子轰击与离子源中生成的反应性物种。化学与物理作用的协同效应可提升刻蚀效率、增强选择性，并实现更精细的结构定义。该工艺特别适用于需要精确轮廓控制及高通量的结构化表面加工。
离子束修整利用精细控制的离子束，以纳米级精度选择性去除材料。通过调节束流扫描路径与驻留时间，可对材料厚度进行局部精确调节，从而实现目标器件性能优化。该工艺适用于先进功能器件中的高精度、确定性修正。