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Nanoquest I

Eine vielseitige Ionenstrahl-Plattform für F&E, ausgelegt zum Ätzen einzelner Wafer bis zu 5″. Ausgestattet mit Hochdurchsatz-Kühlung kann sie Photoresist oder andere Masken durchätzen, um strukturierte Substrate auf nahezu jedem Material zu erzeugen.

Nanoquest II

Ermöglicht präzises, reproduzierbares Trockenätzen nahezu aller Materialien – und unterstützt Universitäten sowie Forschungseinrichtungen weltweit bei der Weiterentwicklung von MEMS-, optischer, Sensor-, Photonik-, HF/Mikrowellen-, Leistungselektronik-, biokompatibler und Speicherbauelement-Forschung.

Nanoquest III/IV

Das System ermöglicht eine präzise und automatische Steuerung von Ionenstrahlenergie und Ätzwinkel. Als Produktions-Ätzanlage konzipiert, ist das Nanoquest III/IV in der Lage, Prozesse vom einfachen Inert-Ätzen bis hin zu komplexen reaktiven Verfahren durchzuführen.

Nanochrome™ Pico

Entwickelt zum Ätzen kleiner Wafer und Dies und ideal für das schnelle Ätzen von Dünnschichten, die auf herkömmliche chemische oder Trockenätzverfahren nicht gut ansprechen. Perfekt für Labore, in denen ein kleiner Platzbedarf entscheidend ist.

Aether – Vakuum-Entgasungssystem

Entwickelt für das schnelle, aufeinanderfolgende Entgasen kleiner Bauteile für den weltraumtauglichen Einsatz, indem diese im Hochvakuum gehalten und gleichzeitig durch thermische Strahlung gebacken werden.

Ares TVAC

Mit einer horizontalen Kammer, zwei Zugangstüren, mehreren Instrumentierungsports und automatisierter Steuerung über Intlvacs Autosys-PLC bietet sie zuverlässige Schwarzkörper-Strahlungsheizung und umfassendes Datenlogging für Weltraumsimulationstests.

Deimos TVAC

Gesteuert über Intlvacs Autosys-PLC bietet es ein ölfreies Hochvakuum, Schwarzkörper-Temperatursimulation ab 150 K sowie Funktionstests im Bereich von –120 °C bis +120 °C – mit vollständigem Datenlogging und LabView-Schnittstelle.

Phobos TVAC

Unser mittelgroßes Thermovakuumsystem, ausgelegt für Tests einer Vielzahl von Komponenten im sauberen, trockengepumpten Hochvakuum (<10⁻⁶ Torr), bietet eine automatisierte Umweltsteuerung über Intlvacs Autosys-PLC mit vollständigem Datenlogging und LabView-Schnittstelle.

AEGIS Diamond-Like Carbon von Intlvac

Das Intlvac AEGIS Diamond-Like Carbon (DLC) PECVD-System ist eine hochmoderne Beschichtungsanlage, die Ihre Prozesse revolutioniert.

Nanochrome™ V: Fortschrittliches Sputter-System

Das Nanochrome™ V ist ein hochmodernes System für plasmaunterstützte Verdampfung und Sputtern. Mit unvergleichlicher Zuverlässigkeit und Präzision...

Electra – UHV-Sputter-Beschichtungssystem

Das Electra UHV Sputter-System von Intlvac ist eine kompakte, speziell entwickelte Plattform für die Abscheidung von Dünnschichten unter Ultrahochvakuum-Bedingungen (UHV) mit...

Icarus – Indium-Solder-Bump-Beschichtungssystem

Das Intlvac Icarus Indium Solder Bump Deposition System ist für die Hochvolumenproduktion optimiert und liefert schnelle Durchlaufzeiten mit außergewöhnlicher Reproduzierbarkeit.

MIDAS Metallisierungssystem für optische Faserbeschichtung

Das MIDAS Metallisierungssystem ist die führende Lösung der Branche für die Herstellung von ein- oder mehrlagigen, symmetrischen Metallbeschichtungen auf optischen Fasern.

Nanochrome™ I R&D Load-Lock-System

Das Nanochrome™ I von Intlvac Thin Film ist ein leistungsstarkes F&E-/Pilot-Physical Vapor Deposition (PVD)-System, das für maximale Flexibilität, Präzision und Bedienfreundlichkeit entwickelt wurde.

Nanochrome™ II

Das Nanochrome™ II ist eine vielseitige Plattform, die speziell für Hochtemperatur-Physical Vapor Deposition (PVD)-Prozesse entwickelt wurde. Das System lässt...

Nanochrome™ IV PARMS

Das Nanochrome™ IV PARMS (Plasma Assisted Reactive Magnetron Sputtering)-System ist das Arbeitspferd der modernen Sputtertechnologie.

Nanochrome™ IV UV VIS

Das Intlvac Nanochrome™ IV UV VIS Ion-Assist-Depositionssystem ist die neueste Innovation in der Präzisions-Beschichtungstechnologie.

Nanochrome™ Pico

Das Intlvac Nanochrome™ Pico ist die ultimative, universell einsetzbare Plattform für Prototyping und F&E im Bereich Physical Vapor Deposition (PVD).

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