紧凑型沉积与刻蚀一体化系统

Nanoquest I IBSD Combo 专为直径 100 mm 及以下的基片设计,是一款将高端 PVD 薄膜沉积与全功能离子束刻蚀相结合的紧凑型设备,为薄膜制造提供卓越的工艺能力。

该技术能够在低压下对金属和介电材料进行溅射,无需带电阴极。系统配备多靶旋转盘、水冷基片台,支持旋转与角度调节,并集成离子束刻蚀功能。

在提供业界公认的高质量 IBSD 涂层的同时,同一台设备还能实现薄膜平坦化和图案化晶圆的精密刻蚀 —— 真正实现一机多用。

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