自 1996 年以来一直提供技术解决方案
在 Intlvac，我们专注于刻蚀、蒸发、溅射以及等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 工艺技术，这些领域构成了我们的核心专长。
凭借在薄膜镀膜与刻蚀设备领域数十年的专业经验，Intlvac 已将多种先进工艺臻于成熟——包括电子束与热蒸发、直流磁控溅射以及等离子体辅助反应溅射。
在我们的在线商城中，您可以找到 Mark I 和 Mark II 离子源的所有组件。现货供应，次日发货。
Intlvac 是 Leybold 真空产品及认证服务在加拿大的独家分销商
微机电系统（MEMS）——即机械与机电元件的微型化——在众多行业中日益重要。为了实现更小的尺寸与重量、更快的速度以及更高的精度，MEMS 技术在通信、交通、医疗和国防系统的发展中发挥着关键作用。随着集成电路技术不断缩小到纳米级别，纳机电系统（NEMS）的应用也在迅速增长。
微米和纳米级的射频电路组件可通过传统的 CMOS 与薄膜技术制造。
Lift-Off 沉积需要在预先图案化的基片上形成极薄、均匀且高质量的薄膜层。
一种新兴工艺，利用高入射角和入射粒子的遮蔽效应，实现自组装的微纳结构生长。
通过精准控制基片温度，可以获得特定的晶粒尺寸、晶体结构/取向或共沉积材料的化学计量比状态。
