自 1996 年以来一直提供技术解决方案
在 Intlvac，我们专注于刻蚀、蒸发、溅射以及等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 工艺技术，这些领域构成了我们的核心专长。
凭借在薄膜镀膜与刻蚀设备领域数十年的专业经验，Intlvac 已将多种先进工艺臻于成熟——包括电子束与热蒸发、直流磁控溅射以及等离子体辅助反应溅射。
在我们的在线商城中，您可以找到 Mark I 和 Mark II 离子源的所有组件。现货供应，次日发货。
Intlvac 是 Leybold 真空产品及认证服务在加拿大的独家分销商
来自 Intlvac Thin Film 的 Nanoquest III/IV 批量离子束刻蚀系统 是目前市场上最具经济性与多功能性的量产级离子束刻蚀平台之一。该系统专为洁净室环境设计，可实现离子束能量与刻蚀角度的自动化控制，从简单的惰性刻蚀工艺到复杂的反应性刻蚀流程，都能精准应对，确保稳定、可重复的高质量加工结果。
多功能且高性价比
卓越的刻蚀均匀性
Nanoquest III/IV 专为洁净室环境量身打造，刻蚀模块布置在服务区域，以将污染风险降至最低。其双门式设计便于从任一侧进行维护，符合超高真空 (UHV) 设计规范，可实现极低的基底真空压力。高速真空泵则确保快速抽空，减少离子束过程中的气体碰撞，提高整体工艺稳定性与效率。
腔体结构: 采用不锈钢材质，符合 UHV 超高真空设计工艺要求，外表面经电解抛光处理。
冷却系统: 腔体内集成焊接式不锈钢冷却水道，呈网状分布，以实现高效散热。
访问与观察: 前后门均采用铰链式设计，便于进出与维护；配备多个观察窗，并可选装装载锁视窗。
真空性能:
真空泵选项: 采用干式真空泵，并可选配 低温泵 或 磁悬浮涡轮分子泵。
亮点特性:
可选配的 二次离子质谱 (SIMS) 系统，可实现高精度且可重复的刻蚀终点控制。
标准功能:
基于 LabVIEW 的控制系统通过图形化界面提供完整且直观的系统操控能力。自动化控制序列包括：
无论是刻蚀复杂图形还是处理高批量生产，Nanoquest III/IV 都凭借以下特性脱颖而出：
同时，Nanoquest Pico 以紧凑、适合实验室使用的结构形式，提供先进薄膜刻蚀应用所需的性能与灵活性，是高端研发环境中的理想补充平台。
Nanoquest III 离子束刻蚀系统 集成了水冷旋转载台、16 cm 射频离子源、易于维护的不锈钢真空腔体、低温高真空抽气系统、自动抽空与放气控制、大气到高真空全量程真空测量、质量流量控制器、机柜式腔体结构以及电子控制台等多种关键子系统。
系统专为洁净室运行而设计，将刻蚀模块布置在洁净室的服务区，以降低污染风险。包括防护罩在内的各类可维护部件均可在服务区轻松访问；双门式刻蚀模块设计，便于从腔体两侧进行维护。遵循 UHV 设计规范，刻蚀模块与装载锁腔体均可实现极低基底真空。高速真空泵不仅提供快速抽空性能，还能有效减少离子束气体碰撞，提升整体工艺稳定性与重复性。