Electra-UHV 溅射沉积系统
由 Intlvac 开发的 Electra UHV 溅射系统 是一款紧凑型、专用化的平台，专为超高真空 (UHV) 环境下的先进薄膜沉积而设计，基底真空可达 10⁻¹⁰ Torr 级别。Electra 系统以精确性与灵活性为核心，非常适合用于新型材料的原型开发及科研应用。
配备 Intlvac 专有的基于 LabVIEW 控制器，Electra 能够实现磁性金属与绝缘材料的自动化溅射沉积。该系统可根据不同材料与工艺需求进行全面定制，满足多样化的研究与生产要求。
Electra-M 变体配备装载锁 系统，可在主腔外进行单片或多片基片的预装载与脱气处理，从而支持高通量工作流程并有效降低污染风险。