Nanochrome II

Nanochrome™ II——高温 PVD 工艺的理想平台

Nanochrome™ II 是一款专为高温物理气相沉积 (PVD) 工艺而设计的理想平台,系统可配置多种沉积源,以满足广泛的工艺需求。
该系统采用创新的垂直分体式“贝壳型”设计,能够完全访问沉积区域。腔体由耐用的 304L 不锈钢 制成,结构为垂直圆柱形,内部名义直径为 32 英寸,高度为 40 英寸。腔体顶部和底部均设有多个引出端口,其中部分接口预留用于未来扩展。

Nanochrome II

Nanochrome™ II——高温 PVD 工艺的理想平台

Nanochrome™ II 是一款专为高温物理气相沉积 (PVD) 工艺而设计的理想平台,系统可配置多种沉积源,以满足广泛的工艺需求。该系统采用创新的垂直分体式“贝壳型”设计,能够完全访问沉积区域。腔体由耐用的 304L 不锈钢 制成,结构为垂直圆柱形,内部名义直径为 32 英寸,高度为 40 英寸。腔体顶部和底部均设有多个引出端口,其中部分接口预留用于未来扩展。

系统规格

腔体内外表面均经过机械加工与电解抛光处理,最大限度地减少表面积,以缩短抽真空时间并降低水汽背景。系统配备三个 Pyrex 观察窗,其中两个带有保护玻璃盖片。镀膜材料与观察窗隔离,而正对电子束蒸发枪的观察窗配备潜望镜与偏振衰减组件,可在沉积过程中实现实时观察。

腔体顶部设有多种引出端口,包括一套 2.0 英寸中空轴铁磁流体旋转引出装置,并集成光学窗口。腔体侧面与底部还预留额外端口,为未来应用提供灵活性。

该系统专为实现卓越性能而设计,非常适用于 长程反应溅射、电子束蒸发 与 热蒸发 等先进工艺,可在高精度与高可靠性的条件下制备高质量薄膜。