Nanoquest I

Nanoquest I 离子束刻蚀与沉积系统

Intlvac Thin Film 推出的 Nanoquest I 是目前最具多功能性的离子束研发平台，专为科研与开发设计。该系统既可用于刻蚀，也可用于薄膜沉积，提供无与伦比的控制力与灵活性。离子束技术通过对离子能量、离子电流密度和束流入射角的独立控制，实现精准且可重复的工艺过程——无论是进行简单的惰性刻蚀，还是沉积复杂的多层薄膜结构，Nanoquest I 都会是最理想的选择。

宣传册

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精密的工程设计

Nanoquest I 系统专为高性能、高要求的科研环境打造：

• 离子束控制：可对离子参数进行精细调整，确保最大工艺灵活性与重复性。
• 双重功能：支持在同一平台上进行离子束刻蚀与薄膜沉积。
• 专注研发: 为实验工艺、定制配置和材料创新量身打造。

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坚固的系统结构

Nanoquest I 配备超高真空（UHV）腔体，采用不锈钢材料，并采用兼容UHV的工艺制造而成。其电抛光外壳不仅外观洁净、专业，还便于集成至无尘室环境中。

• 高效热管理：不锈钢冷却通道以网状结构焊接，作为高效的散热器使用。
• 优化操作便捷性：配有铰链和差分抽气前门可轻松向外打开，便于舱体内部部件的保养和检修。
• 过程可视性：多个观察窗（可选装预真空腔上亦配置一个）可实现对内部工艺过程的全方位监控。

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Nanoquest I-LL：预真空系统

为提高产能并控制污染，Nanoquest I-LL 配置了先进的预真空腔：

• 磁耦合驱动：可将安装在托盘上的晶圆安全地传输至主腔体。
• 更短的循环时间：在不破坏真空的情况下实现样品的快速更换。
• 更洁净的工艺：显著减少水气和颗粒，降低工艺漂移风险。
• 真空性能：使用干式泵加冷泵或磁悬浮涡轮分子泵，在30分钟内达到1×10⁻⁶ Torr，24小时内达到5×10⁻⁸ Torr。

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先进的系统控制

系统采用基于 LabVIEW 的自动化控制界面，提供在 Windows 环境下对整个系统直观且全面的管理：

• 自动工艺流程控制：全自动气动执行器，实现腔体的自动抽真空与放气。
• 工艺可靠性：精准控制确保多次实验之间的重复性。
• AutoVac 集成：与 Intlvac 的 AutoVac 控制器无缝集成，实现系统自动放气。

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精密的基片处理平台

Nanoquest I 的基片载台专为高均匀性刻蚀与沉积设计，支持直径最大为6英寸的晶圆：

• 旋转功能：0–45 RPM，带偏移控制以确保均匀度。
• 入射角控制：由步进电机驱动，计算机控制，真空下可调角度范围为 0° 至 270°，控制

  精度优于 ±0.1°。

• 水冷载台：直接接触式水冷，确保整个过程中的热稳定性。
• 便捷操作：载台安装于向外打开的腔体门上，方便访问腔体内部。
• 集成挡板：气动驱动，可选配束流电流探头。

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支持的工艺

• 离子束刻蚀
• 离子束溅射沉积
• 离子束辅助沉积（IBAD）
  
• 反应性离子束沉积（RIBE）
• 化学辅助离子束刻蚀（CAIBE）

为何选择 Nanoquest I

• 对薄膜刻蚀与沉积过程实现卓越控制
• 紧凑型设计，采用洁净室兼容的不锈钢结构
• 可选预真空腔，提升产能与洁净度
• 先进的计算机控制，实现工艺自动化管理
• 多个集成观察窗，工艺全过程可视化
• 可配置为离子束溅射、电子束沉积及 斜角沉积（GLAD）

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