自 1996 年以来一直提供技术解决方案
在 Intlvac，我们专注于刻蚀、蒸发、溅射以及等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 工艺技术，这些领域构成了我们的核心专长。
凭借在薄膜镀膜与刻蚀设备领域数十年的专业经验，Intlvac 已将多种先进工艺臻于成熟——包括电子束与热蒸发、直流磁控溅射以及等离子体辅助反应溅射。
在我们的在线商城中，您可以找到 Mark I 和 Mark II 离子源的所有组件。现货供应，次日发货。
Intlvac 是 Leybold 真空产品及认证服务在加拿大的独家分销商
Nanochrome™ V 是一款最先进的系统，专为等离子体辅助蒸发与溅射工艺而设计。凭借无与伦比的可靠性与精度，该系统能够为多种应用持续沉积高质量薄膜，是生产与研发环境中的理想解决方案。
溅射是一种通过高能等离子体或气体粒子（通常称为工作气体）轰击靶材表面，使其表面粒子被溅射出来的过程。该技术被广泛用于在基片上沉积薄膜，具有以下优势：
我们自主设计的无栅端霍尔 离子源专为基片预清洗与辅助沉积而开发。其具备角度与线性可调特性，确保工艺精度与最佳性能表现。
Nanochrome™ V 的软件可自动执行关键功能，包括抽真空、气体流量、离子源及溅射控制，使操作：
我们以提供无与伦比的客户支持为荣，确保您的成功：
由 Nanochrome™ V 制备的薄膜可用于：
立即联系 Intlvac，亲身体验为何 Nanochrome™ V 是终极溅射与薄膜沉积系统。无论您从事科研还是生产，该系统都是您创新路上的理想伙伴。