自 1996 年以来一直提供技术解决方案
在 Intlvac，我们专注于刻蚀、蒸发、溅射以及等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 工艺技术，这些领域构成了我们的核心专长。
凭借在薄膜镀膜与刻蚀设备领域数十年的专业经验，Intlvac 已将多种先进工艺臻于成熟——包括电子束与热蒸发、直流磁控溅射以及等离子体辅助反应溅射。
在我们的在线商城中，您可以找到 Mark I 和 Mark II 离子源的所有组件。现货供应，次日发货。
Intlvac 是 Leybold 真空产品及认证服务在加拿大的独家分销商
Intlvac Thin Film 的 Nanochrome™ I 是一款高性能科研/试生产用物理气相沉积 (PVD) 系统，专为灵活性、精度与易用性而设计。该系统占地小、运行成本低，并具备多工艺兼容能力，是在广泛先进材料上开发薄膜工艺的理想解决方案。
无论您的重点在于精密光学、半导体还是介电镀膜，Nanochrome™ I 都能为从金属到复杂介电材料的多种应用实现高质量薄膜沉积。
从多种基片传动选项中进行选择，以满足您特定的沉积需求：
石英卤素加热器与全自动快门系统可实现全面的热控制与沉积控制。系统提供多种 PVD 源选项：
Nanochrome™ I 系统 是一款科研/试生产用物理气相沉积 (PVD) 系统。系统支持多种配置，可根据您的特定需求进行定制。凭借小巧的占地面积、低运行成本与易操作特性，Nanochrome™ I 是您科研或试制项目的理想选择。该系统可采用电子束蒸发或磁控溅射技术，在 精密光学镀膜、半导体与介电材料以及超导体 等领域实现高质量薄膜沉积。