Nanochrome IV UV VIS

Intlvac Nanochrome™ IV UV VIS 离子辅助沉积系统 是精密光学镀膜技术领域的最新创新成果。该系统专为卓越性能而设计,能够通过 电子束蒸发 结合 离子辅助 并在 光学监控 下运行,实现复杂光学滤光片的高精度制备。

系统支持实时再优化控制,也可按标准沉积流程操作,确保每次镀膜均具备优异的精度与稳定性。

Nanochrome IV UV VIS

Intlvac Nanochrome™ IV UV VIS 离子辅助沉积系统 是精密光学镀膜技术领域的最新创新成果。该系统专为卓越性能而设计,能够通过 电子束蒸发 结合 离子辅助 并在 光学监控 下运行,实现复杂光学滤光片的高精度制备。

系统支持实时再优化控制,也可按标准沉积流程操作,确保每次镀膜均具备优异的精度与稳定性。

 全球首创 

搭载智能低温泵技术

Nanochrome™ IV UV VIS 是首款采用新一代 CTI 可变速低温泵 的量产平台,提供无与伦比的性能与效率。

双轴旋转,实现最高效率

系统配备带有双轴旋转功能的行星转台及五个 12 英寸基片托架,实现仅 2% 的基线膜厚均匀性。每个行星托架可容纳一片 12 英寸基片,或多片较小基片,在每个工艺循环中最大化镀膜产能。

主要优势

  • 卓越的工艺可重复性
  • 2% 的基线膜厚均匀性
  • 全自动工艺控制
  • 薄膜层实时再优化
  • 双轴旋转与五个 12 英寸基片托架

Nanochrome™ IV UV VIS 系统 以其尖端技术与人性化设计重新定义精密光学镀膜系统标准,在各类应用中均能实现卓越性能与稳定品质。

先进的光学监测系统

Nanochrome™ IV UV VIS 采用宽带光学监测系统,实现薄膜层的实时再优化。该系统可在反射模式与透射模式下自动控制沉积过程。Intlvac Nanocon 界面 提供无缝的数字化控制、一键式自动化操作,以及关键参数的实时数据记录。 其先进的沉积控制工具可确保精确的工艺管理与高达 275°C 的温度控制,实现无与伦比的一致性与卓越性能。

人性化设计

秉承用户便捷操作的理念,Nanochrome™ IV UV VIS 配备三个弹簧加载式快门观察窗,可直接观察 蒸发源、高电流离子源 及 样品台。此外,系统配有带潜望镜附件的可旋转偏振片观察窗,可在操作过程中安全观察沉积源。
系统还支持实时光谱监测,调节范围覆盖 400 至 1500 纳米。

UV VIS 光学滤光片生产系统

探索最新的 Nanochrome™ IV UV VIS 产品手册

  • 卓越的工艺可重复性
  • 2% 的基线膜厚均匀性
  • 配备双轴旋转的五个 12 英寸行星托架
  • 人性化设计

Nanochrome™ IV UV VIS 离子辅助沉积系统 可通过 电子束蒸发 结合 离子辅助 并在 光学监控 下实现实时优化或标准控制操作,用于制备复杂光学滤光片。

其 宽带光学监测系统 可在反射或透射模式下实现自动化工艺控制。

先进的沉积供给组件 提供对工艺运行的精确控制,并实现高达 275°C 的温度管理,确保无与伦比的稳定性与性能。