关于 Intlvac
自1967年以来，Intlvac 一直专注于高真空技术的卓越品质与创新。今天，我们已成为薄膜镀膜与刻蚀设备领域的领先制造商。
Intlvac Thin Film 的使命不仅仅是制造和安装 PVD 及离子束溅射/刻蚀设备，而是为客户提供更具价值的整体解决方案，帮助他们实现超出预期的成果。
自2001年起，我们将系统出口到全球，目前已在美国、加拿大、马来西亚、新加坡、澳大利亚、以色列、印度、中国和德国安装了设备。
我们的核心优势来自强大的研发能力。公司内部实验室集设计、工程与制造于一体，开发用于物理气相沉积（PVD）和离子束刻蚀的先进设备。我们擅长为客户提供定制化工艺方案，并提供完整系统，包括离子源及其所有关键部件。
此外，我们还利用先进工艺生产高品质 PVD 薄膜，包括离子辅助热蒸发、电子束蒸发、反应性与非反应性磁控溅射，以及等离子体增强化学气相沉积（PECVD）的类金刚石碳（DLC）镀膜。
今天，Intlvac Thin Film 已成为离子束刻蚀/溅射系统及反应性溅射系统在精密光学镀膜领域的权威。
谨致问候，
Dino Deligiannis, President