自 1996 年以来一直提供技术解决方案
在 Intlvac，我们专注于刻蚀、蒸发、溅射以及等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 工艺技术，这些领域构成了我们的核心专长。
凭借在薄膜镀膜与刻蚀设备领域数十年的专业经验，Intlvac 已将多种先进工艺臻于成熟——包括电子束与热蒸发、直流磁控溅射以及等离子体辅助反应溅射。
在我们的在线商城中，您可以找到 Mark I 和 Mark II 离子源的所有组件。现货供应，次日发货。
Intlvac 是 Leybold 真空产品及认证服务在加拿大的独家分销商
Intlvac Icarus 铟焊凸点沉积系统 专为高产量生产而优化，能够在保持卓越重复性的同时实现快速处理。从按下“启动”按钮到取出完全加工完成的 200 mm 晶圆，全程耗时不足 90 分钟，使 Icarus 成为应对高要求半导体制造环境的顶级解决方案。
Intlvac 开发了先进的铟超纯化技术，彻底消除了沉积过程中常见的“溅射”问题。该技术可获得高纯度、均匀的镀膜质量，这对于微电子应用至关重要。
与电镀及其他方法相比，物理气相沉积 (PVD) 具有以下优势：
无论您是在扩大产能，还是在优化器件可靠性，Icarus 铟沉积系统都能提供您所需的性能、灵活性与技术支持。 立即联系我们，了解 Icarus 如何助力您下一代微电子器件的制造。
了解更多
Intlvac 铟焊凸点沉积系统 专为高通量生产而设计，具备低维护需求与快速处理能力。凭借 Intlvac 专有技术及 30 余年系统制造与镀膜服务经验，该系统在可靠性与性能方面表现卓越。非常适用于高产量市场，可在 120 分钟内完成一片 200 mm 晶圆的全流程加工。
浏览我们的最新产品手册，了解更多关于 Icarus 铟焊凸点沉积系统的信息。